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2020 - 27-28
C-31(4寸)高精度双面光刻机
高精度双面光刻机
2020 - 04 -28
主要用途 主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。 由于本机有特殊的找平机构，使本机不仅适合硅片、玻璃...
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中国光刻机生产厂家(成都兴林真空设备有限公司)
Chengdu Xinglin Vacuum Equipment Co., Ltd
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